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一、等离子清洗设备简介
等离子清洗机运用气体做为清理物质,合理有效地预防了因液态清理物质对被清理物产生的二次环境污染。等离子清洗设备外接1台进口真空泵,运行时清理腔中的等离子体柔和侵蚀被清理物的表面层,短期内的清理就能够 使有机空气污染物被完全地清理掉,另外空气污染物被进口真空泵抽掉,其清理水平超过分子级。
等离子清洗设备除去具备超清洁基本功能外,在特殊条件下还可依据需用更改某种材质表面层的特征。等离子技术作用于材质表面层,使表面层分子结构的离子键产生重新组合,建立新的表面层特征。对某种有独特应用领域的材质,在清洁流程中等离子清洗设备的辉光放电不仅增强了这种材质的黏附性、相溶性和浸润性,并可消毒杀菌。等离子清洗设备广泛运用于光电子学、电力电子技术、材料学、生物科学、高分子材料科学技术、生物医学工程、微观流体学等各个领域。
二、等离子清洗设备的主要仪器应用
1.清洁ATR元器件、各种各样形态的人工晶体、纯天然结晶体和晶石。
2.清洁光学镜头、显微镜片等各种眼镜片和载片。
3.高分子原材料表面层装饰。
4.清除光电器件、半导体材料元器件等表面层的光阻化学物质。
5.清洁生物芯片、微流控芯片。
6.清洁堆积抑菌凝胶的基片。
7.清洁电子元器件、光学玻璃器件、激光器件、表层的镀膜基片、集成ic。
8.改进粘合光电器件、光纤、生物医学工程材质、航天局材质等常用胶水的粘和力。
9.清洁半导体材料元器件、印刷电路板。
10.口腔材料、人工合成移植物、医疗器械产品的消毒杀菌。
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